![早稲田大学知的財産法制研究所[RCLIP]](https://rclip.jp/wp/wp-content/uploads/2016/08/rclip.jpg)
商標および意匠に関する諸課題 その２
「デザイン保護制度の現状と第４次産業革命の影響」
| 日程 2017年3月11日（土） 13時00～17時30分 |
| 会場 早稲田大学 ３号館 ４０５教室 |
| テーマ 「デザイン保護制度の現状と第４次産業革命の影響」 |
| 参加費 無料 （ただし、意見交換会（懇親会）は4,000円） |
| 主催 早稲田大学知的財産法制研究所（RCLIP） 共催 早稲田大学法学部 |
【予定プログラム】
13:00 開会挨拶 楜澤能生 早稲田大学法学学術院長、教授
13:10～14:50 講演
・講師： Sarah Burstein オクラホマ大学ロースクール 准教授
_ 「Design Protection in the US: The Patent Approach and its
_ application towards Industry 4.0」 （英→日逐次通訳）
・コメンテーター： 麻生典 九州大学大学院芸術工学研究院 助教
（休憩）14:50～15:00
15:00～17:20 パネルディスカッション
「デザイン保護の現状と第４次産業革命の影響／様々な視点から」
司会： 五味飛鳥 弁理士、早稲田大学知的財産法制研究所ＲＣ
パネリスト：
森山明子 武蔵野美術大学デザイン情報学科 教授
佐藤徹 日本大学芸術学部デザイン学科 教授
縣康明 ソニー株式会社知的財産センター特許2部デザインGp 統括課長
藤ヶ谷友輔 三菱電機株式会社デザイン研究所
コメンテーター： 高林龍 早稲田大学法学学術院 教授
17:20～17:30 閉会挨拶 上野達弘 早稲田大学法学学術院 教授
18:00～20:00 意見交換会（懇親会） （会費：4,000円）
【概要】
AI、ビッグデータ、IoT、3Dプリンタ等々、画期的な技術の開発が進展しています。産業構造それ自体はもとより、デザイナーによるデザイン開発環境も、これらの新しい技術の台頭によって大きな変化を生じると予想されます。近代デザインは、19世紀後半に欧州で誕生して以降百数十年の歴史の中で大きく進化してきました。そして今また、大きな変革の時を迎えようとしています。
意匠法を中心とする現状のデザイン保護システムは、商品の大量生産及び大量流通を前提とした企業によるデザイン開発の保護奨励に主眼があります。しかし、今後世界に現出する新たなデザイン開発環境が、依然としてこのようなパラダイムの中に留まるとは限りません。むしろ進化のベクトルは、これを越える方向を向いているようにみえます。
そこで、本セミナーにおいては、米国制度を含む現状のデザイン保護システムが新時代に対応するにあたってどのような課題を内包しているのか、また、我々にどのような変化が求められるのか、理想的な保護システムのあり方はどのようなものであるかを検討する際の示唆を得る目的で、デザイン開発に関係する様々なお立場の方を招聘し、それぞれの視点から、変化の胎動をご報告頂きます。
参加ご希望の方は以下のフォームよりお申し込みください。
