〔シンポジウム〕デザイン保護制度の現状と未来(2018.3.10)

第1部:EUデザイン保護制度
              -日本との比較を踏まえて
第2部:わが国のデザイン保護制度の課題
              -意匠協会(仮)設立に向けて

【日程】  2018年3月10日(土) 13:30~17:30
【会場 】早稲田大学  早稲田キャンパス 3号館 405教室 

【主催】 早稲田大学知的財産法制研究所(RCLIP)
【共催】 早稲田大学法学部
【後援】 早稲田大学総合研究機構

【参加費 】シンポジウムは無料(ただし、終了後の懇親会(交流会)は4,000円)

予定プログラム
13:30

開会挨拶     

第1部 : EUデザイン保護制度-日本との比較を踏まえて (日英同時通訳)  

司 会 高林龍 早稲田大学法学学術院 教授

講 演 Jonathan Griffiths ロンドン大学クインメアリー校 教授
    Guido Westkamp ロンドン大学クインメアリー校 教授
    冨宅恵 弁護士、大阪工業大学 客員教授
    伊賀聡一郎 パロアルト研究所 (PARC) 日本代表
    末宗達行 早稲田大学(院)・日本学術振興会特別研究員

パネルディスカッション

16:15~16:30     休憩

16:30~17:30
第2部 : 
わが国のデザイン保護制度の課題-意匠協会(仮)設立に向けて (言語:日本語)

司 会 五味飛鳥 弁理士 しろくま特許事務所 代表 

登壇者からショートコメント
     井上和世 デザイナー ㈲ネオデザイン 代表取締役
    高林龍 早稲田大学法学学術院 教授
    峯唯夫 弁理士 特許業務法人レガート知財事務所 所長
    伊藤真 弁護士・弁理士 ライツ法律特許事務所 所長
    縣康明 ソニー株式会社知的財産センター特許2部デザインGp 統括課長

パネルディスカッション

【概要】
3Dプリンター等によるデジタルファブリケーションが進展するなどデザインを取り巻く環境は変化しているなかで、デザイン保護法制のあり方が問われている。第一部では、EUにおけるデザイン保護の現状について議論を行う。そして、同じく環境の変化に直面し、意匠法制に関する議論が活発化しつつある日本の現状と、欧州における議論からの示唆について議論を行う。
引き続いて第2部で、日本の現状の意匠法制について主要な問題点をいくつかの視点から指摘してもらい、こうしたことを積極的に考える組織の立ち上げが必要ではないか、の提言を行う。
 
参加ご希望の方は以下のフォームよりお申し込みください。